1. Estrikti nan ekspozisyon kristal likid la
Anjeneral, yon TFT-LCD konpoze de yon asanble substra anwo, yon asanble substrè pi ba, yon kristal likid, yon inite sikwi kondwi, yon modil ekleraj, ak lòt Pwodwi pou Telefòn. Asanble a substrate pi ba sitou gen ladan yon substrater vè pi ba ak yon etalaj TFT, ak tout pèp la substra anwo gen ladan kouch anwo kay la. Substra an vè, plak la polarize, ak estrikti nan fim ki kouvri substra anwo a yo plen ak kristal la likid nan espas sa a ki te fòme pa substrats yo anwo ak pi ba yo. Figi 1.1 montre estrikti tipik yon koulè TFT-LCD. Figi 1.2 montre estrikti nan modil la ekleraj ak inite a sikwi kondwi.
Sifas enteryè substrater vè a kouvri avèk yon seri kondiktif vè mikwo-plak ki koresponn ak pwen pixel nan ekspozisyon an, TFT semi-kondiktè switching aparèy, ak liy vètikal ak orizontal ki konekte aparèy yo switching semi-conducteur. Sa yo se tout fabrike pa microelectronics tankou fotolithografi ak grave. Se estrikti a kwa-seksyonèl nan aparèy la semi-kondiktè TFT nan ki se chak pixel fòme yo montre nan figi. 1.3.
Sou sifas enteryè substra anwo anwo a, yon plak transparan kondiktif vè aplike, jeneralman te fè nan Indium Tin oksid (ITO) materyèl, ki sèvi kòm yon elektwòd komen ak fòme yon plusieux nan kondiktif mikwo plak sou substra nan pi ba yo. Seri elektrik jaden. Jan yo montre nan Figi 1.4. Si LCD a se koulè, twa koulè prensipal (wouj, vèt, ble) inite filtre ak pwen nwa yo plen ant plak la kondwi komen ak substra nan vè, kote pwen yo nwa anpeche limyè a soti nan koule soti nan diferans ki genyen ant piksèl yo. , Li se te fè nan materyèl opak, paske li se distribiye nan yon matris, yo rele sa matris la nwa.
2 LCD manifakti pwosesis
Koulè TFT-LCD manifakti pwosesis la gen ladan kat sub-pwosesis: yon pwosesis TFT, yon pwosesis filtre koulè, yon pwosesis selil, ak yon pwosesis modil. ] [2]. Koulè TFT-LCD pwosesis pwosesis
2.1TFT pwosesis
Wòl pwosesis tretman TFT se pou fòme TFT yo ak etalaj elektwòd sou substrater vè ki pi ba a. Pou estrikti TFT ak elèktrik kouch yo montre nan figi 1.3, yo itilize yon pwosesis senk-mask. Sa se, senk mask yo itilize pou konplete pwosesis la nan yon estrikti kouch jan yo montre nan figi 1.3 pa senk pwosesis modèl transfè idantik [2]. Rezilta yo nan pwosesis la nan pwosesis la transfè modèl wout la.
(a) No modèl transfè modèl (b) No 2 pwosesis transfè modèl (c) Non 3 pwosesis transfè modèl
(d) No 4 pwosesis transfè modèl (e) No 5 pwosesis transfè modèl
Pwosesis rezilta chak pwosesis transfè modèl
Pwosesis pwodwi transfè modèl konsiste de depo, fotolithografi, grave, netwaye, ak enspeksyon. Koule a espesifik se jan sa a [1]:
Te kòmanse ak enspèksyon substrats vè, depoze fim, netwaye, ak kouch photoresist.
Ekspozisyon - devlopman - grave - retire nan photoresist - enspeksyon
Metòd grave yo enkli sèk grave ak mouye an gra. Prensip pwosesis yo nan pwosesis ki anwo yo menm jan ak sa yo ki nan pwosesis ki koresponn yo itilize nan pwosesis la manifakti sikwi entegre. Sepandan, akòz gwo zòn nan substrate an vè nan ekspozisyon an kristal likid, yo dekri paramèt yo pwosesis ak paramèt ekipman yo itilize nan teknoloji tretman TFT yo. Gen patikilye.
2.2 filtre teknoloji plak filtre
(a) Substrate Glass (b) Pwosesis blokaj limyè (c) Pwosesis filtre
(d) Filtre pwosesis (e) Filtre pwosesis (f) depo ITO
Figi 2.3 Fòmasyon nan asanble filtre
Fonksyon pwosesis pwosesis filtre se pou trete estrikti fim mens yo montre nan figi 1.4 sou substra a. Koule a se jan sa a:
Konmansman an nan pwosesis blokaj? filtre filtre ?? pwoteksyon ak netwayaj nan deteksyon an nan depo ITO?
Pwosesis prensipal la oswa pwosesis ki dekri anwo a montre efè pwosesis la.
Yon seri pwen nwa ki fèt ak materyèl opak ak distribiye nan yon fòm matris yo ranje sou substrate filtre a, epi yo yo trete pa yon pwosesis modèl transfere modèl (yo rele tou yon pwosesis blokaj limyè) ak ranje sou filtè a. Nan konmansman an nan pwosesis la fotofabrikasyon, pwosesis la transfè modèl sekans enkli etap sa yo: depo sputter, netwaye, kouch photoresist, ekspozisyon, devlopman, mouye etching, ak retire nan fototèz, prensip debaz yo nan chak pwosesis.
(a) Depistaj Sputter (b) Netwayaj (c) Photoresist kouch (d) Ekspozisyon
(e) Devlope (f) Mouye mouye (g) Retire doktè
Limyè-blocker modèl transfè pwosesis
Apre yo fin blòk la limyè fini, li antre nan etap nan pwosesis filtre. Twa kalite filtè (wouj, vèt, ak ble) yo respektivman trete nan twa pwosesis modès transfè, depi twa kalite filtè yo dirèkteman te fè nan koulè diferan reziste. Te fè, pwosesis transfè modèl la diferan de pwosesis transfè modèl la susmansyone, li pa gen ladan pwosesis la nan grave ak retire fototoris. Pwosesis la espesifik se: koulè reziste kouch, ekspoze, devlopman ak enspeksyon, ak prensip la nan chak pwosesis.
Apre yo fin blòk la limyè trete, apre pwosesis la netwayaj ak deteksyon, se pwosesis la depo ITO fè. Finalman, se yon kouch conducteur fèy endis fèblan (ITO) kouvwi sou kouch nan filtre yo fòme yon elektwòd komen nan plak la filtre. .
(a) Koulè reziste kouch (b) Ekspozisyon (c) Devlopman (d) enspeksyon
Koulè filtre modèl pwosesis transfè
3 pwosesis fabrikasyon tipik nan ekspozisyon kristal likid
Pwosesis manifakti nan ekspozisyon kristal likid la se fondamantalman menm jan ak sa a nan kous la entegre. Diferans lan se ke estrikti nan kouch TFT nan ekspozisyon an kristal likid fabrike sou substrater an vè olye pou yo silansi a wafer. Anplis de sa, ranje tanperati ki nesesè pa teknoloji pwosesis TFT a se 300 ~. 500oC, pandan y ap pwosesis la entegre fabrikasyon sikwi mande pou yon seri tanperati nan 1000 oC.
3.1 pwosesis depo
Gen sitou de kalite metòd depozisyon ki itilize nan pwosesis likid kristal ekspozisyon manifakti: yon sèl se ion-ranfòse vapè depo chimik, ak lòt la se depo dispit. Prensip debaz la nan depo chimik vapè anpòte-a se ke substrate la vè yo mete l nan yon chanm vakyòm ak chofe a yon tanperati sèten, ak Lè sa a, se yon gaz melanje entwodwi, epi li se yon vòltaj RF aplike nan elektwòd nan chanm, ak melanje a gaz konvèti nan yon eta ion. Se konsa, yon fim solid oswa kouch nan yon metal oswa konpoze ki fòme sou substra la. Prensip la substra nan metòd la depo spout se ke nan chanm nan vakyòm, se sib la bonbade ak patikil yo enèji chaj, ak atòm la jwenn ase enèji sote nan faz gaz la, ak Lè sa a, yon fim nan materyèl la menm jan sib la se depoze sou sifas la nan materyo-a. An jeneral, patikil yo enèjik yo se iyon elyòm ak iyon Argon pou yo pa chanje pwopriyete yo chimik nan sib la. Metòd la depo spout gen ladan yon metòd spitman DC, yon metòd radyo frekans frekans, ak renmen an.
3.2 Lithografi
Yon pwosesis fotolitografi se yon pwosesis pou transfere yon modèl sou yon mask nan yon substra vè. Depi bon jan kalite a nan retikule a sou panèl la LCD depann sou pwosesis la litografi, li se youn nan pwosesis yo nan pwosesis la LCD ki pi enpòtan. Pwosè a litografik trè sansib a patikil pousyè nan anviwònman an, kidonk li dwe fè nan yon chanm trè pwòp.
3.3 pwosesis grave
Se pwosesis la grave divize nan yon pwosesis grave grave ak yon pwosesis grave sèk. Pwosesis la grave mouye chimikman retire materyèl la sou sifas substra a lè l sèvi avèk yon reyaktif chimik likid. Avantaj sa yo se ti tan, pri ki ba, ak operasyon ki senp. Pwosesis la cheche sèk se yon pwosesis nan ki yon liy fim mens grave pa yon plasma. Dapre mekanis nan reyaksyon, etikèt plasma, etik reyon aktif, mayetik améliorée reyon ion etching, ak gwo-dansite plasma etching ka divize an kalite. Fòm kapab divize an silendrik, paralèl plat kalite. Avantaj nan pwosesis la sèk grave yo ba korozyon lateral, presizyon kontwòl segondè, ak bon inifòmite nan grave sou yon zòn gwo. Teknoloji ICP ka tou etch miwa ak vètikal trè bon epi fini. Se poutèt sa, sèk grave yo itilize fè mikromèt. Gwo submicron, nano-echèl jeyometri pwosesis, gen avantaj evidan.
4 Devlopman tandans nan pwosesis likid kristal ekspozisyon fabrikasyon
4.1 TFT-LCD Devlopman tandans
Depi gwosè a nan substra an vè detèmine gwosè a maksimòm nan LCD a ki ka trete nan liy lan pwodiksyon ak difikilte pou yo nan pwosesis, endistri a LCD divize liy lan pwodiksyon dapre gwosè a maksimòm nan substrate an vè ki liy lan pwodiksyon ka travay . Pou egzanp, nivo ki pi wo nan liy lan jenerasyon 5yèm. Gwosè a nan backplane a se 1200X1300mm. Li ka koupe jiska 6 substrats pou 27-pous panoramic LCD-TV. Gwosè a nan backplane jenerasyon 6yèm lan se 1500X1800mm. Koupe 32-pous substrates ka koupe 8 moso ak 37 pous ka koupe 6 moso. Gwosè a nan liy lan jenerasyon 7yèm se 1800X2100mm. Koupe 42 pous nan substra a ka koupe 8 moso, 46 pous ka koupe 6 moso. Figi 4.1 montre definisyon an gwosè nan substrater vè pou jenerasyon yo 1st ak 7th. Koulye a, nan sijè ki abòde mondyal la te rantre nan etap pwodiksyon de pwodwi yo jenerasyon 6th ak 7th, epi li espere ke nan de pwochen ane yo, ogmantasyon nan kapasite pwodiksyon anvan jenerasyon an 5yèm ak 5yèm ap piti piti diminye, pandan y ap 6th a ak 7yèm jenerasyon Kapasite pwodiksyon jenerasyon 7yèm lan pral akselere kwasans lan nan de dènye ane yo. Koulye a, manifaktirè ekipman pi gwo yo te tou prezante aparèy ki ka itilize ak 6yèm jenerasyon oswa liy pwodiksyon pi wo, tankou Nikon a etap-kalite aligners plat panèl montre pou 6th, 7yèm, ak 8th aplikasyon pou liy jenerasyon. FX -63S, FX-71S ak FX-81S.
